Titāna Target Sputtering

Produkta nosaukums: Titāna mērķa izbālīšana

Materiāls: Tīrs titāns: GR1 GR2

Tīrība > = 99,6%

Pielietojums: Aparatūra, apdare, instrumenti, keramika, golfa un citas pārklājuma nozares.

Dimensiju:

Apaļš uzsmidzēšanas mērķis: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35 un citi īpašie izmēri.

Caurule sputtering mērķis: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm, Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm, un citi īpašie izmēri.

Plate sputtering mērķis: T6-40×W60--800×L600--2000mm un citi īpaši izmēri.

Mēs varam pielāgot sakausējuma mērķus dažādās proporcijās atbilstoši klientu vajadzībām

Materiālu:

1) Ti /Al sakausējuma mērķis (67:33,50:50at%)

2) W / Ti sakausējuma mērķis (90:10wt%),

3) Ni/V sakausējuma mērķis (93:7, wt%)

4) Ni/Cr sakausējuma mērķis (80:20, 70:30, wt%),

5) Al/Cr sakausējuma mērķis (70:30,50:50at%)

6) Nb / Zr sakausējuma mērķis (97:3,90:10wt%)

7) Si/Al sakausējuma mērķis (90:10, 95:5, 98:2, 70:30, wt%)

8) Zn/Al sakausējuma mērķis

9) Augstas tīrības pakāpes hroms mērķis (99,95%, 99,995%)

10) Al/Cr sakausējuma mērķis (70:30, 50:50, 67:33, at%)

11) Ni / Cu sakausējuma mērķis (70:30, 80:20, wt%)

12) Al/Nd sakausējuma mērķis (98:2wt%)

13) Mo/Nb sakausējuma mērķis (90:10, wt%)

14) TiAlSi sakausējuma mērķis (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10, wt% un at%)

15) CrAlSi sakausējuma mērķis (Cr/Al/Si=30/60/10, wt% un at%)

Detalizētas bildes sputtering mērķis:

Populāri tagi: titāna mērķa sputtering, Ķīna, ražotāji, piegādātāji, rūpnīca, pielāgotus, krājumā, kas izgatavoti Ķīnā